上午-维纳斯厅（主会场）：前沿技术报告暨闭幕

09:00-09:20

钙钛矿-硅叠层电池界面修饰、空天光伏适配性与光电性能研究

刘江 教授 / 苏州大学

09:20-09:40

以光为尺，以数为谋：真空镀膜过程的高精度光学监控与闭环控制

刘壮 CEO / 苏州市镀量恒科技有限公司

09:40-10:00

ASML发展启示录：光刻零部件自主化的机遇与挑战

刘超礼 技术总监 / 合肥卓光科技有限公司

10:00-10:20

第三代半导体的高温制程和关键设备

盛江 技术总监 / 深圳捷佳伟创新能源装备股份有限公司

10:20-10:40

茶歇 / 观展/自由交流

10:40-11:00

RPD溅射氧化锡技术在钙钛矿晶硅叠层光伏领域的研究进展

李子佳 高级工程师/研发总监 / 正泰新能科技股份有限公司

11:00-11:20

高精度ALD量产技术瓶颈与发展趋势

庄明岳 总经理 / 原子精制股份有限公司

11:20-12:00

磁过滤弧纯离子（PIC）镀膜技术在PCB微钻等领域的应用

夏正卫 总经理 / 安徽纯源镀膜科技有限公司

12:00-13:30

自助午餐 / 休息/观展

13:30-13:50

PVD、CVD与ALD多种薄膜技术的集成及其应用

覃志伟 研发项目经理 / 广东汇成真空科技股份有限公司

13:50-14:10

HoFCVD设备的研发与应用

黄海宾 董事长 / 江西汉可泛半导体技术有限公司

14:10-14:30

面向分子转化和表面防护的原子层沉积技术

张斌 研究员/课题组长/中国科学院山西煤炭化学研究所

14:30-14:50

茶歇 / 观展/自由交流

14:50-15:10

钨钼靶材在集成电路应用的技术及市场报告

赵泽良 CEO / 河南东微电子材料有限公司

15:15-15:35

阴极弧磁过滤技术（FCVA）及其在具身机器人领域的应用

赵盛福 总经理 / 纳峰真空镀膜(上海)有限公司

15:35-15:55

利用FCVA技术制备氮化铝薄膜

王炎武 副总经理 / 陕西埃恩束能碳基技术有限公司

15:55-16:15

大会总结与闭幕仪式、安全返程